真空炉とは、炉室内の特定の空間において、真空システム(真空ポンプ、真空測定装置、真空バルブなどの部品を丁寧に組み立てたもの)を用いて炉室内の一部の物質を排出し、炉室内の圧力を標準大気圧より低くし、炉室内の空間を利用して真空状態を実現する炉です。
真空炉は真空環境で加熱する装置です。炉室は金属または石英ガラスのカバーで密閉された炉内の高真空ポンプシステムに配管されています。炉の真空度は133×(10-2〜10-4)Paに達します。炉内の加熱システムは、抵抗炉線(タングステン線など)の通電加熱によって直接加熱することも、高周波誘導加熱によって加熱することもできます。最高温度は約3000度に達します。主にセラミック焼成、真空製錬、電気真空部品の脱ガスおよび焼鈍、金属部品のろう付け、セラミックと金属の密封に使用されます。

