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チューブ炉
当社を選ぶ理由
信頼できる製品品質
新京社は2005年にプロの材料研究者によって設立されました。創業者は北京大学で学び、高温実験装置と新材料研究実験装置のトップメーカーです。これにより、材料研究開発実験室に高品質で低コストの高温装置を提供することができます。
高度な機器
主な生産設備: CNC パンチングマシン、CNC 曲げ機、CNC 彫刻機、高温オーブン CNC 旋盤、ライニングマシン、ガントリーフライス盤、マシニングセンター、板金、レーザー切断機、CNC パンチングマシン、曲げ機、自己容量溶接機、アルゴンアーク溶接機、レーザー溶接、サンドブラスト機、自動塗装焼成室。
幅広い用途
製品は主にセラミック、粉末冶金、3Dプリント、新素材の研究開発、結晶材料、金属熱処理、ガラス、新エネルギーリチウム電池の負極材料、磁性材料などに使用されます。
ワイドマーケット
新京炉の年間輸出売上高は5000万を超え、北米市場（米国、カナダ、メキシコなど）が30％、ヨーロッパ市場（フランス、スペイン、ドイツなど）が約20％を占めています。東南アジア（日本、韓国、タイ、マレーシア、シンガポール、インドなど）が15％、ロシア市場が10％、中東（サウジアラビア、UAEなど）が10％、オーストラリア市場が5％、残り10％です。
チューブ炉とは何ですか?
チューブ炉は電気加熱装置です。一般的には、周囲の加熱要素によって加熱される円筒形のチューブがあります。チューブ炉のチューブ材料としては、アルミナ、溶融石英、パイレックスが一般的に使用されています。腐食性材料の場合は、タングステンまたはモリブデンのチューブが使用されます。環境への熱伝達を最小限に抑えるために、外側に断熱材が使用されています。プロセスまたは顧客の要件に応じて、加熱ゾーンは 1 つまたは複数にすることができます。温度は、熱電対とコントローラー フィードバック システムを使用して測定および制御できます。
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![真空管炉]()
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![真空管炉]()
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![直径300mmの電気管炉]()
直径300mmの電気管炉1. 最高1200度もっと
2.大口径チューブ300mm
3.デュアル加熱ゾーン500mmまたは700mmまたは880mmまたはカスタマイズ可能
4. 外径40〜500mmオプション、単一温度ゾーン長さ205〜440mmまたはカスタマイズ可能
5.高精度インテリジェント温度コントローラ、PID制御、30-段階温度時間プログラム、精度±1度
6.... -
![CVDチューブ炉]()
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![ミニロータリーキルン]()
ミニロータリーキルン1. 最高1200度もっと
2. 速度調整が可能なロータリー設計
3. 最大真空度 -0.1Mpa
4.外径40〜100mm、温度ゾーン長さ205〜440mm（オプション）
5.高精度インテリジェント温度コントローラ、PID制御、30-段階温度時間プログラム、精度±1度
6. トラブルシューティングを容易にする電圧計と電流計 -
![スライディングチューブ炉]()
スライディングチューブ炉1.1200C連続使用もっと
2.ダブルゾーン
3.温度・時間プログラムの独立制御
4.30セグメント温度時間プログラム、PID制御、精度±1C
5.急速熱処理用スライド
6.不活性雰囲気で酸化を減らす
7.CE、ISO9001:2015認証 -
![CVDミニチューブ炉]()
CVDミニチューブ炉1.1200C CVDミニチューブ炉もっと
2.スプリットドアタイプ
3.30または50セグメント温度コントローラ、PID制御、±1度
4.3ガスチャネルシステムフロート流量計。
5.H2燃焼・検査システム搭載
6.CE、ISO9001:2016認証 -
![3ゾーン炉]()
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チューブ炉の利点
比類のない熱均一性
チューブ炉の主な利点は、比類のない熱均一性です。ホットゾーン内のワークピースは、360 度の軸全体にわたって最大 1800 度 (3272 度 F) の温度に持続的にさらされます。これにより、チャンバー全体、つまりワークピースの断面全体にわたって完全に一貫した熱分布が保証されます。熱に敏感な部品の小ロット生産プロセスは、チューブ炉の優れた均一性から恩恵を受けます。
ゾーン加熱
一般的な水平チューブ炉では、シリンダーの中央部分が加熱ゾーンを構成します。制御された温度勾配はチューブの両端まで広がります。シングルゾーンおよびマルチゾーンの円筒形ヒーターをベースにしたいくつかのオプションが用意されており、エンドユーザビリティが最大限に高まります。水冷エンドキャップ付きのシングルゾーンヒーターを選択すると、可能な限り小さな形式で最適な熱均一性が得られます。または、完全に定義可能な温度プログラムを備えたマルチゾーンチューブ炉を使用して、加熱と冷却を正確に制御できます。エンドキャップに簡単にアクセスできるため、チューブ炉は小規模の材料テストに最適です。
大気制御
オプションのガス混合および供給システムを備えた水平チューブ炉は、厳しい大気要件を伴う熱処理に最適です。加熱は不活性または還元条件下で実行でき、精密な質量流量コントローラとプログラム可能なアラートがさまざまな重要な安全機能をサポートします。これは、研究室および工場ベースの熱処理の全範囲にわたるユーザーにとって非常に重要です。
チューブ炉の種類
垂直管状炉
垂直管状炉は、垂直方向で高温加熱を行うように設計されています。このタイプの炉は、正確な温度制御、均一な加熱、効率的なエネルギー使用を実現します。垂直設計は、スペースが制限されているアプリケーションや、垂直セットアップがプロセスにメリットをもたらすアプリケーションに特に役立ちます。
用途:垂直管状炉は、材料試験、熱処理、化学反応など、加熱および冷却速度の制御が必要な用途でよく使用されます。その設計は、サンプルを炉の上部から落とす必要があるプロセスに適しており、特定の種類の化学実験や物理実験に適しています。
利点：垂直構成のため、水平炉に比べて設置面積が小さく、スペースが限られた研究室に最適です。さらに、垂直構成は、実験や製造プロセスで重力が役立つ特定のプロセスに役立ち、熱と材料の均一な分散を保証します。
水平管状炉
水平チューブ炉は多用途で、多くの研究室環境で一般的に使用されています。チューブの長さ全体にわたって均一な加熱を提供し、さまざまなチューブ サイズに対応できます。水平方向は、チューブの長さに沿って均一な温度ゾーンを必要とするプロセスに適しています。
用途:水平チューブ炉は、アニーリング、材料試験、化学処理に最適で、処理中にサンプルを観察したり回転させたりする必要がある用途に使用できます。また、長く連続したチューブが必要な用途にも適しています。
利点：これらのチューブ炉は水平設計のため、サンプルの配置や取り出しが容易で、加熱プロセス中に操作や観察が必要な実験に最適です。均一な加熱機能により、一貫した結果が得られます。これは、実験室環境での研究や品質管理にとって重要です。
回転管炉
回転式チューブ炉には回転機構が組み込まれており、動作中にチューブを回転させることができます。この回転により、サンプルの熱分布と混合がより均一になります。これらのチューブ炉は連続処理に最適で、少量から大量までのサンプルを処理できます。
用途:回転管炉は、均一な加熱と連続的な混合が不可欠な粉末冶金、材料の混合、化学反応などの用途で特に役立ちます。また、粒状または粉末状の材料の処理が必要な業界でも使用されます。
利点：これらの炉の回転動作により、均一な温度分布が実現され、サンプルの沈殿が防止されます。これは、一貫した処理と分析に不可欠です。また、回転により熱伝達の効率も向上し、処理時間が短縮され、結果がより均一になります。
チューブ炉の応用
熱処理プロセス
チューブ炉は、金属や合金の焼きなまし、硬化、焼き戻しなどの熱処理プロセスで広く使用されています。これらのプロセスでは、材料を特定の温度まで加熱し、その後、制御された速度で冷却して、特定の材料特性を実現します。チューブ炉は正確な温度制御を維持できるため、さまざまな熱処理プロセスに適しています。
材料合成
チューブ炉は、金属酸化物や窒化物などの高純度無機化合物を製造する材料合成プロセスで使用されます。炉室に反応物質を充填し、所定の時間、特定の温度で加熱して、目的の化学反応を促進します。また、無機化合物の精製にも使用できます。
セラミック加工
セラミック処理に使用されるモデルは、炭化ケイ素やアルミナなどの高温セラミックを含むセラミックの焼結とアニールを行います。炉室にセラミック材料を充填し、管状炉を特定の温度に所定の時間加熱して、材料の焼結と緻密化を促進します。また、材料を特定の温度に加熱してからゆっくりと冷却して機械的特性を向上させるセラミックのアニールにも使用できます。
ろう付けとはんだ付け
これらは、ろう付けおよびはんだ付けプロセスで使用され、充填材を使用して 2 つ以上の金属部品を接合します。炉室に部品と充填材を充填し、管状炉を特定の温度に加熱して充填材を溶かします。真空ろう付けと制御雰囲気ろう付けの両方に使用できます。
アニーリングプロセス
チューブ炉は、材料を特定の温度まで加熱し、その後ゆっくりと冷却して機械的特性を向上させるアニーリング プロセスで使用されます。アニーリングは、材料の硬度を下げ、延性を高めるのに効果的です。チューブ炉は、応力緩和、再結晶アニーリング、溶体化アニーリングなど、さまざまなアニーリング プロセスに使用できます。
チューブ炉の動作原理
加熱要素
チューブ炉には、通常、耐性材料またはシリコンカーバイド棒で作られた加熱要素があります。これらの要素は、チューブの外側または内側に配置されます。
サンプルの配置
加熱するサンプルまたは材料は、反応室として機能するセラミックまたは石英管内に配置されます。この管は炉の加熱ゾーン内に配置されます。
均一加熱
チューブの全長にわたって均一な加熱を提供するように設計されており、サンプル全体が均一に目的の温度に達するようにします。
冷却
加熱プロセスが完了したら、炉を自然に冷却することもできますが、場合によっては、冷却プロセスを加速するための内蔵冷却システムがあることもあります。
温度管理
温度コントローラは、チューブ炉内に希望の温度を送り、維持するために使用されます。このコントローラは、サンプルに近い加熱室内に設置されることが多い熱電対または熱抵抗器を通じて温度を監視します。
絶縁
チューブ炉は周囲への熱損失を最小限に抑え、炉内の温度を安定させるために十分に断熱されています。一般的な断熱材には、セラミック ファイバーや耐火レンガのライニングなどがあります。
暖房
炉の電源を入れると、加熱要素が熱を発生し、それがチューブに伝わり、サンプルに伝わります。温度コントローラは、加熱要素に供給される電力を調整して、設定温度を維持します。
ガス環境
用途に応じて、チューブ炉はさまざまなガス環境で動作できます。たとえば、空気、不活性ガス (窒素やアルゴンなど)、真空で動作できます。ガス環境の選択は、プロセスと加熱される材料の特定のニーズによって異なります。
温度管理
温度制御は、スプリット チューブ炉の最適化において重要な要素です。これらの炉の温度は、目的の反応またはプロセスが効率的かつ一貫して行われるように、正確に制御する必要があります。温度制御に影響を与える主な要因の 1 つは、使用する加熱要素の種類です。抵抗線加熱要素は、高温能力と均一な加熱特性のため、スプリット チューブ炉でよく使用されます。ただし、熱ドリフトの影響を受けやすく、温度変動やプロセス制御の低下につながる可能性があります。この問題を軽減するには、熱電対を使用して温度を監視し、制御システムにフィードバックを提供することができます。
ガス流量
ガス流量は、スプリット チューブ炉の最適化におけるもう 1 つの重要な要素です。ガス流量と組成は、炉室内で発生する反応やプロセスに大きな影響を与える可能性があります。たとえば、ガス流量が高いと、反応副産物を除去し、プロセス効率を向上させることができます。一方、ガス流量が低いと、反応時間が長くなり、収率が高くなります。ガス組成も、反応速度と生成物収率に影響を与える可能性があるため、非常に重要です。たとえば、反応に酸素を追加すると、反応速度と収率が向上します。ただし、酸素が多すぎると、望ましくない副反応や生成物の酸化が発生する可能性があります。したがって、ガス組成を注意深く監視し、それに応じて流量を調整することが不可欠です。
炉の設計
スプリットチューブ炉の設計も、その性能と最適化に影響します。たとえば、炉管の長さと直径は、炉内の滞留時間と熱伝達に影響します。管が長いほど滞留時間が長くなり、反応効率が向上しますが、管が短いほどガス速度が速くなり、ガスと固体の混合が改善されます。炉管の材質も性能に影響します。石英は、高温耐性と優れた光学特性を備えているため、一般的に使用されています。これは、結晶成長などの用途では重要です。ただし、石英は脆く、熱衝撃の影響を受けやすいこともあります。したがって、より堅牢な用途には、アルミナやシリコンカーバイドなどの他の材料が使用される場合があります。
メンテナンスと安全性
最後に、メンテナンスと安全性は最適化の重要な側面です。定期的なメンテナンスは、炉が最高のパフォーマンスで動作し、ダウンタイムを最小限に抑えるのに役立ちます。これには、炉室の清掃、加熱要素または熱電対の交換、ガス管の漏れや詰まりのチェックなどの作業が含まれます。これらの炉を操作するときは、安全性も不可欠です。炉は高温で動作することがあり、適切な安全手順に従い、適切な個人用保護具を使用することが重要です。これには、耐熱手袋と目の保護具の着用、炉室の適切な換気の確保、適切なシャットダウン手順の遵守が含まれます。
焼入れ試験に小型チューブ炉を使用する理由
大気制御
水平チューブ炉は、厳しい大気要件のある熱処理プロセスに最適なソリューションです。その利点は、正確な温度制御とプログラム可能なアラートであり、さまざまなラボベースの熱処理プロセスに不可欠です。
熱均一性
制御された雰囲気を作り出すことに加え、小型チューブ炉は比類のない熱均一性も実現します。炉の「ホットゾーン」に置かれた材料の温度は、360 度軸全体で 1800 度に達することがあります。急冷試験では、他の多くの小ロット生産プロセスと同様に、結果の正確性を確保するためにこの高温安定性が必要です。
ゾーン加熱
水平チューブ炉は、ゾーン加熱が有益または必要なさまざまな用途に合わせて設計できます。チューブ炉の加熱ゾーンはシリンダーの中央にあり、制御された温度勾配がチューブの片側または反対側の端まで広がります。
チューブ炉とボックス炉
外観
管状炉は、長い円筒形の管を通過する材料を加熱するように設計されているため、通常、箱型炉よりも小型でコンパクトです。一方、箱型炉は、密閉されたチャンバーまたは「箱」内で材料を加熱するように設計されているため、より大きくて広々としています。
その結果、管状炉は箱型炉よりも占有スペースが少なくなる傾向があります。ただし、特定の炉のサイズと外観は、炉の具体的な設計と使用目的に応じて異なる場合があります。
サイズ
管状炉は、加熱のために管内に直接挿入できるため、小さな物体や材料の焼結によく使用されます。これは、小粒子鉱石、ガラス粉末、セラミック粉末などの材料の焼結に役立ちます。一方、箱型炉は、内部スペースが大きく、大きな物体を収容できるため、通常は大きな物体や材料の焼結に使用されます。箱型炉は、ステンレス鋼やその他の材料の表面処理など、幅広い焼結用途に使用できます。
加熱要素
ボックス型炉と管状炉の両方で、シリコンモリブデン棒を加熱要素として使用できます。これらの棒は高温を生成でき、摩耗や腐食に耐性があるためです。ただし、管状炉内の雰囲気は通常循環しており、加熱される材料は管を通過して内部の高温の雰囲気にさらされます。
一方、ボックス型炉では、加熱される物質が密閉されたチャンバー内に収められており、外部環境にさらされていないため、雰囲気は一般的に安定しています。これは、炉の加熱特性と加熱される物質に影響を及ぼす可能性があります。
アプリケーション
管状炉とボックス炉はどちらも幅広い業界や用途で使用されており、これら 2 種類の炉を使用して実行できる材料の種類とプロセスは重複していることがよくあります。ただし、おっしゃるとおり、管状炉は一般にシャフトやストリップの加熱に適しています。これらの材料は加熱のために管に簡単に挿入できるためです。
一方、ボックス炉は、内部スペースが広く、幅広い材料を収容できるため、より汎用性が高く、幅広いプロセスに使用できます。その結果、汎用性や多用途性が必要な加熱が必要な場合には、ボックス炉が好まれることが多いです。
チューブ炉を購入する際の考慮事項
アプリケーションを理解する
アプリケーションの特定の要件とニーズを理解します。これにより、チューブ炉に必要な仕様を決定するのに役立ちます。
認定資格
チューブ炉に安全認証や業界標準への準拠など、必要な認証があるかどうかを確認します。
作業温度
アプリケーションに必要な温度範囲を決定します。チューブ炉は、30-1100 度、1200-1300 度、1400-1700 度など、さまざまな温度範囲で使用できます。処理する材料の実際の動作温度を考慮してください。
加熱ゾーンの長さ
サンプルのサイズに基づいて適切な加熱ゾーンの長さを選択します。適切な作業スペースがあれば、加熱性能が向上し、コストも削減されます。
チューブサイズとるつぼサイズ
サンプルのサイズと特性に基づいて、チューブのサイズ (内径) とるつぼのサイズを選択します。回転速度、材料の量、チューブの直径、吊り下げ長さ、チューブの厚さなどの要素を考慮してください。チューブの製造に使用する材料も重要です。材料によって温度制限や潜在的な用途が異なるためです。
入力電圧
チューブ炉に必要な入力電圧を決定します。使用可能な電源が炉の電圧要件と一致していることを確認します。
真空ポンプ
真空ポンプの必要性を考慮してください。アプリケーションによっては、制御された雰囲気や特定の真空レベルが必要な場合があります。必要な真空ポンプと互換性のあるチューブ炉を選択してください。
当社の認定
私たちの工場
Xinkyo 社は、プロの材料研究者によって 2005 年に設立されました。創業者は北京大学で学び、高温実験装置および新材料研究実験装置のトップメーカーです。これにより、材料研究開発実験室に高品質で低コストの高温装置を提供することができます。当社の製品には、高温オーブン、チューブ炉、真空炉、トロリー炉、リフティング炉、およびその他の完全な装置セットが含まれます。優れた設計、手頃な価格、および顧客サービスにより、Xinkyo 社は高温装置の材料科学研究における世界的リーダーになることを目指しています。
チューブ炉に関する究極の FAQ ガイド
中国有数のチューブ炉メーカーおよびサプライヤーとして、弊社は工場から販売されている高品質のチューブ炉をご購入いただくことを心より歓迎いたします。弊社の製品はすべて高品質で、価格も競争力があります。